试题详情
- 判断题铱192的半衰期为75天，若目前检验工件的最佳曝光时间为20分钟，则经过150天后，在相同的摄影条件下要达到同样的黑度，曝光时间需要120分钟。
- 错误
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 采用高KV值X射线照相法的特点是适用于厚
- 管电压一定，曝光量=管电流×曝光时间。
- 一般来说，曝光量只有选择在胶片特性曲线的
- 放射性同位素衰变过程中的辐射有哪几种形式
- 在X射线管窗口处加滤光板可以滤掉软射线，
- 检查轻合金的薄试件也可利用β放射同位素所
- 在评片前首先要检查底片是否合格，其合格要
- 透过物体后的射线，其能量减弱到入射能量一
- 在国际单位制中，吸收剂量用符号D表示，它
- 使用铅或铅化锑高原子序数增感屏的目的是为
- 日本JISZ3104的标准名称是“焊缝射
- 当采用荧光屏观察法时，几乎所有的曝光均需
- 高能X射线比低能X射线更易于使胶片感光。
- 对于厚度差比较大的工件进行一次曝光透照时
- X或γ射线在标准状态下，对一立方厘米的空
- 周向辐射X射线管有哪两种阳极靶？
- 连续、宽束射线透过厚度为d的物体后，射线
- 产生给定胶片密度所需要的伦琴数随射线能量
- 评价一个同位素源时，要看（）、（）、（）
- 美国ASTME94的标准名称是“射线照相