试题详情
- 单项选择题一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
A、不做处理，让患者把义齿戴走
B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
C、腭杆组织面缓冲
D、取下腭杆
E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
- E
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 关于制锁力大小的描述，下面不正确的是（）
- 牙列缺失后牙槽嵴吸收最快的部位是（）
- 人工解剖式牙牙尖斜度为（）
- 下列不属于引起龈损伤的原因是（）
- 患者，男，45岁。右上第一磨牙缺失，右上
- 与义齿吸附力无关的因素是（）
- 种植义齿龈缘美观的改善方法是（）
- 种植义齿上部结构与基桩的连接方式不包括（
- 在上颌基托前腭区设计模拟腭皱的目的是（）
- 肯氏第一类缺失的后腭杆应（）
- 暂时冠的作用不是（）
- RPI卡环采用近中支托的主要目的是（）
- 关于腭小凹，叙述错误的是（）
- 可摘局部义齿中有传导力作用的部件不包括（
- 支托可设计的部位是（）
- 以下关于桩冠冠桩长度的说法中，哪项是不确
- 铸造卡环的宽度与厚度比为（）
- 可摘局部义齿的连接体如位于基牙的倒凹区会
- 判断全口义齿印模的标准是（）
- 抗力最差的修复体是（）