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简答题运用挥发-沉淀长大机理，说明H2还原WO3制取细W粉时应如何控制工艺条件？
  • （1）原料：
    A粒度：当采用WO3时，其粒度与还原钨粉粒度间的依赖性不太明显，而主要取决于WO2的粒度。目前，采用蓝钨（蓝色氧化钨）作原料。该原料具有粒度细、表面活性大，W粉一次颗粒细和便于粒度控制的特点。
    B杂质元素：影响透气性或生成难还原化合物。
    .K、Na等促使钨粉颗粒粗化；
    .Ca、Mg、Si等元素无明显影响：
    .少量Mo、P等杂质元素可阻碍W粉颗粒长大
    （2）还原方式：二阶段还原
    （3）氢气：降低氢的露点，流量不宜过高，顺流通氢。
    （4）还原工艺条件：
    .还原温度T：降低T，高的温度会提高钨氧化物的水合物在气相中的浓度，颗粒粗化；
    .推舟速度V：降低V，推舟速度打导致氧气增加，高氧指数的氧化物具有更大的挥发性，提高浓度，颗粒粗化；
    .料层厚度t：降低t，料层厚度过高不利于氢向底层物料的扩散，钨氧化物的含氧量高，颗粒粗化。
    （5）添加剂：少量的添加剂如Cr、V、Ta、Nb等的盐可抑制钨粉颗粒的粗化。

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