试题详情
- 单项选择题利用上颌双侧
垫矫正反，反解除后垫每次应磨去多少（） A、0.3～0.5mm
B、0.5～1.0mm
C、1.0～1.5mm
D、0.1～0.3mm
E、2.0～3.0mm
- A
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 丝圈式缺隙保持器（）
- 增加磨牙支抗的力是（）
- 在颌面发育的快速期中，对儿童进行错矫治临
- 口外矫形力下颌可接受的力值是（）
- 正常恒牙，上尖牙咬在下尖牙（）
- 由耳点和眶点连线组成的头影测量平面是（）
- 弯制活动矫治器的双曲舌簧常用（）
- 多根牙的抗力中心在（）
- 恒牙期矫治错的最好时期为（）
- 患者，男，11岁，下颌面部呈相对后退位，
- 上颌第一磨牙的近中颊尖咬在下颌第一磨牙近
- 牙列拥挤分三度，其中Ⅲ度拥挤是（）
- 关于基准平面，下列哪项说法不正确（）
- 患者，女，10岁，替牙，上颁发育正常，前
- 下列哪项不是霍利保持器的组成部分（）
- 儿童长期吮拇指可造成（）
- 主要用于乳牙期、替牙期以矫正牙齿因素为主
- 我国儿童的错畸形发生率达（）
- Kennedy牙列缺损分类法分几类（）
- 在颌面发育的快速期中，第一恒磨牙萌出是第