试题详情简答题制造硅半导体器体中，常使硼扩散到硅单晶中，若在1600K温度下，保持硼在硅单晶表面的浓度恒定（恒定源半无限扩散），要求距表面10-3cm深度处硼的浓度是表面浓度的一半，问需要多长时间（已知D1600℃＝8×10-12cm2/s；当）？正确答案：答案解析：关注下方微信公众号，在线模考后查看热门试题简述固态相变形成新相的形状与界面能和界面柏氏矢量在三元相图的四相共存区，系统的自由度数为下列关于复合材料颗粒强度说法中，错误的是近程结构根据金属结晶的热力学，下列描述不正确的是请问影响合金相结构的因素主要有哪几个。用（）制成的导线可以提高计算机性能。固溶体按原子在点阵中排列的秩序性分：（）共价键相界对于有可能进行结晶的材料，决定液体冷却时非化学计量化合物有何特点？为什么非化学计回复二元相图必须遵循以下几何规律：（）。（）是尺寸范围在1到100nm的材料结构脱溶过程有什么普遍规律？临界形核功当温度不变时，熔体组成的O/Si比高，低图中为一个三元系统相图。根据此图
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