试题详情简答题简述热壁LCVD装置正确答案:LPCVD反应器本身是以退火后的石英所构成,环绕石英制炉管外围的是一组用来对炉管进行加热的装置,因为分为三个部分,所以称为“三区加热器”。气体通常从炉管的前端,与距离炉门不远处,送入炉管内(当然也有其他不同的设计方法)。被沉积的基片,则置于同样以石英所制成的晶舟上,并随着晶舟,放入炉管的适当位置,以便进行沉积。采用直立插片增加了硅片容量对薄膜均匀性没有影响。答案解析:关注下方微信公众号,在线模考后查看热门试题半固态金属流变成形的关键技术包括哪些?雾化喷射成形工艺一般采用()。简述晶体泡生法原理简述用微乳液法制备纳米Fe2<试述准晶结构的特点,它与晶体和非晶体材料在晶体生长过程中维持其过饱和度的途径有哪原位自生法、在金属基复合材料制备过程中,SHS烧结外延技术分为哪些?自蔓延燃烧方式SHSSHS熔铸SHS焊接实心注浆法试述金属注射成形工艺过程用喷射成形技术制备复合材料时有什么优势?镁合金材料适合于用什么半固态成形方法进行将水热条件下纳米晶粒的形成过程可分为哪些陶瓷烧结技术有哪些?简述半固态加工原理及特点。 简述干燥中的关键技术