试题详情
- 简答题圈形卡环适用于（）。
- 远中孤立且颊或舌向倾斜的磨牙上
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 一般而言水分子的氧原子侧为“+”，氢原子
- 锤造冠制作中，基牙或患牙需恢复的形态包括
- 下列哪一种不是粘接桥修复的适应证（）
- 石膏模型上后堤区制作时，最宽处宽度为（）
- 下列有关3／4冠牙体预备的叙述，正确的是
- 固定桥修复时，基牙牙根周围牙槽骨吸收最多
- 无牙颌模型上架时进行面弓转移的目的是（）
- 金合金全冠抛光所用的抛光剂是（）。
- 患者初戴全口义齿，主诉上颌左侧压痛，不能
- 全口义齿基托需缓冲的区域是（）
- 以下有关固定桥的应力分析正确的是（）
- 大张口时上下颌中切牙近中切角间正常的垂直
- 一患者，缺失3个月，残冠，已作根管充填。
- 上前牙缺失的深覆患者，固位体可以设计为3
- 关于基牙倒凹深度与坡度的描述，正确的是（
- 缺失，间有约．1.55mm间隙，不松动。
- 根管侧穿的原因有（）
- 无尖人工牙的特点不包括（）
- 塑料全冠易折断的部位是（）
- 全冠修复体采用龈上边缘的最主要优点是（）