试题详情
- 多项选择题口外支抗类矫治器的口外抗基部位为（）
A、额
B、颏
C、顶
D、枕
E、颈后
- A,B,C,D,E
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 由耳点和眶点连线组成的头影测量平面是（）
- 改良生物调节器下切牙帽唇侧应（）
- 功能性矫治器每天最少戴用时间为（）
- 使用activator治疗时下颌每前移1
- 垫厚度将上下前牙离开多少最为适宜（）
- X线头影测量的主要应用有（）
- 患者，女，13岁，前牙反，侧面观·面中部
- 整体移动牙所需力约等于牙倾斜移动所需力的
- 牙列拥挤分三度，其中Ⅱ度拥挤是（）
- 张某，女，12岁，恒牙。磨牙远中关系，前
- 第一本具有正畸内容书籍的出版是（）
- 抑制上颌生长的力是（）
- 下列哪项是先天因素造成的错（）
- 骨性错的治疗方法有（）
- 轻微错、生理功能无大妨碍属于（）
- 弯制活动矫治器的双曲唇弓常用（）
- 正畸矫治前必须有记录患者牙情况的模型，称
- 后牙远中错，前牙深覆盖、下颌后缩（）
- 诱发功能性前牙反的主要原因是（）
- 口腔不良习惯不包括（）