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简答题简述种植磁附着体在上颌缺损修复中的应用方法。
  • (1)植入种植磁附着体:常规植入种植体,中心螺丝的顶端即为磁性固位体的衔铁部分,其暴露于粘膜上方,厚度为1.2mm,植入术即完成。
    (2)制取印模:二期手术后3天,将闭路磁体吸附在种植体附着体顶端,以托盘制取初印模,个别托盘,及精细印模。取完印模将闭路磁体取下备用。
    (3)记录和转移牙合位关系:可按全口义齿制作方法做蜡基托,记录并转移牙合位关系。
    (4)制作修复体:以人造石填补模型缺损腔之倒凹,使之便于取戴,并与粘膜组织间形成缓冲区,留出足够的鼻腔通气道,在其上制作中空式赝复体。
    (5)赝复体:将赝复体于口内试戴调牙合完毕,将闭路磁体用自凝塑料固定在赝复体相应部位。
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