试题详情
- 单项选择题下列哪项不是口外支抗常选的支抗部位()
A、额部
B、颈部
C、顶部
D、枕部
E、以上都不是
- E
关注下方微信公众号,在线模考后查看
热门试题
- 颅面部生长发育的研究方法包括()
- 矫治力可来源于()
- 牙列拥挤分三度,其中Ⅲ度拥挤是()
- 关于箭头卡环,叙述正确的是()
- 用软橡胶或弹性塑料制成,戴在上下颌所有牙
- 近中错()
- 患者,女,21岁,恒牙,磨牙完全Ⅱ类颌关
- 平面导板矫治器适用于()
- 咬物习惯()
- 的建立约在婴儿()时开始建,直至到()时
- 用于矫治不良唇习惯的矫治器有()
- 下列哪项是Begg矫治器的组成部分()
- 关于正畸疼痛的影响因素,下列哪一项是不正
- 关于安氏Ⅱ类错,下列说法不正确的是()
- 牙列拥挤邻面去釉的适应症()
- 全颌曲面断层片()
- 患者,女,28岁,四个第一磨牙远中尖对尖
- 改良生物调节器下切牙帽唇侧应()
- 压低前牙,升高后牙()
- 杜某,男,4岁,乳牙。乳磨牙近中关系,前