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简答题化学气相沉积与物理气相沉积有什么区别?
  • (1)化学气相沉积(CVD)是将低温下气化的金属化合物与加热到高温的工件接触,在工件表面与碳氢化合物和氢气或氮气进行气相反应而生成金属或化合物沉积层的过程。
    (2)将金属、合金或化合物放在真空室中蒸发或称溅射,使这些相原子或分子在一定条件下沉积在工件表面上的工艺称为物理气相沉积(简称PVD).
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