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简答题铸造技术为何能提高多晶硅纯度;制备铸造多晶硅的工艺流程;描述直培法工艺;影响直培法制备柱形多晶硅的因素。
  • 提纯材料:
    1.利用定向凝固过程中的杂质分凝现象,使杂质富集在多晶硅锭的两端。
    2.在真空中熔化,凝固,原料中杂质在表面挥发。
    3.在保护气体或熔体中添加能与杂质反应生成挥发性物质的气体,是杂质中熔硅分离。直熔法工艺流程:装料---加热---熔化---晶体生长---退火---冷却。
    直培法描述:硅原材料首先在坩埚中熔化,坩埚周围的加热器保持坩埚上部温度的同时,自坩埚的底部开始逐渐降温,从而使坩埚底部的熔体首先结晶,再通过保持固液界面在同一水平面上并逐渐上升,使得整个熔体结晶为晶锭。采用定向凝固法长晶。影响因素:纯度高,不产生杂质玷污;不与晶体粘连;热膨胀系数小;热导率小;坩埚形状(方形,内壁涂高纯氧化硅/氮化硅)
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