试题详情简答题简述化学气相沉积法的五个基本步骤正确答案: A.反应物已扩散通过界面边界层; B.反应物吸附在基片的表面; C.化学沉积反应发生; D. 部分生成物已扩散通过界面边界层; E.生成物与反应物进入主气流里,并离开系统。 CVD反应是由这五个主要步骤所构成的。因为进行这五个的发生顺序成串联,因此CVD反应的速率取决于步骤,将由这五个步骤里面最慢的一个来决定。 答案解析:关注下方微信公众号,在线模考后查看热门试题简述单晶材料制备中定向凝固法原理。简述实现连续挤压的条件 。简述原位自生法基本原理金属基复合材料简述复合材料的分类按增强材料形态分类凝胶(Gel)实现快速凝固的途径有哪些?将水热条件下纳米晶粒的形成过程可分为哪些烧结一般分为哪些阶段?试述炼钢的基本过程。简述半固态金属成形基本原理?铸造的实质是什么?如何衡量合金的铸造性能行星球磨机简述常见的溅射镀膜方法简述应变退火法制备铝单晶的几种工艺。自蔓延高温合成简述单晶体的基本性质溶剂热法(Solvothermal单晶材料制备中区域熔化法的原理。简述恒温蒸发法原理