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单项选择题半导体三极管工作过程中（）。

A、发射区杂质浓度大于基区杂质浓度；

B、发射区杂质浓度小于基区杂质浓度；

C、发射区杂质浓度等于基区杂质浓度；

D、发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。

  • A

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