试题详情
- 单项选择题Al-Cu系列铝合金在时效硬化处理时，晶间会沉淀出CuAl2，则（）。
A、在晶粒边界形成富铜区，电位最低
B、在晶粒边界形成富铜区，电位最高
C、在晶粒边界形成贫铜区，电位最低
D、在晶粒边界形成贫铜区，电位最高
- C
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