试题详情
多项选择题在半导体工艺中，如果淀积的薄膜不是连续的，存在一些空隙，则（）。

A、使薄膜的介电常数变大

B、可能引入杂质

C、可能使薄膜层间短路

D、使薄膜介电常数变小

E、可能使薄膜厚度增加

  • B,C

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