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简答题例出典型的硅片湿法清洗顺序。
  • 硅片清洗步骤：
    （1）H2SO4/H2O2（piranha）：有机物和金属；
    （2）UPW清洗（超纯水）：清洗；
    （3）HF/H2O（稀HF）：自然氧化层；
    （4）UPW清洗：清洗；
    （5）NH4OH/H2O2/H2O（SC-1）：颗粒；
    （6）UPW清洗：清洗；
    （7）HF/H2O：自然氧化层；
    （8）UPW清洗：清洗；
    （9）HCL/H2O2/H2O（SC-2）：金属；
    （10）UPW清洗：清洗；
    （11）HF/H2O：自然氧化层；
    （12）UPW清洗：清洗；
    （13）干燥：干燥。

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