试题详情
多项选择题解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

A、加强工艺操作

B、加强人体和环境卫生

C、使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备

D、采用HCl氧化工艺

E、硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹

  • A,B,C,D,E

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