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简答题简述背沟道刻蚀型结构的优缺点。
  • 优点是光刻次数少,材料成本低,工艺节拍短;缺点是刻蚀选择比小,a-Si:H层相应要做得厚些,一般为1500~2000Å,工艺难度大,厚度控制要求严格。
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