试题详情
- 简答题简述7次光刻的第二次光刻中O2灰化的作用。
- O2灰化是在4层CVD之后阻挡层i/sSiNx膜的上面进行氧气O2等离子体处理，把表面具有亲水性的i/sSiN薄膜变成疏水性的SiOx薄膜，增强与光刻胶的附着性。
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 简述PDP显示面临的问题？适合应用在哪些
- 简述FFS技术与IPS技术的差别。
- IPS技术为什么有硬屏之称？通过与其他广
- FED阴阳间距大小对显示性能的影响如何？
- 简述LED和OLED电致发光的发光原理的
- 在一个演出的场合需要使用200英寸以上的
- 简述MVA技术的显示原理。
- 光度学中有哪几个主要物理量？它们是如何定
- 荧光粉厚度对显示性能的影响是什么？
- 简述AMOLED和PMOLED的区别。
- 简述有机材料和无机半导体材料的相同点和不
- 简述向列相液晶的特点
- 描述MVA技术如何实现的广视角？
- 简述叠层存储电容的组成及等效电路。
- 简述TFT在液晶显示器中的作用。
- 传统的液晶注入方式的工艺流程。
- 简述晶体与非晶材料在导电上的差别？
- 简述5次光刻的工艺流程。
- 简述电子纸的显示原理。
- 简述CRT显示的原理。