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简答题简述背沟道阻挡结构的优缺点。
  • 优点是a-Si:H层可以做得比较薄,一般厚度是300~500Å,薄膜的生产性好,关态电流很小;刻蚀选择比大,刻蚀条件宽松,工艺简单;缺点是比背沟道刻蚀型结构要多增加一次光刻,成本增加,节拍时间长。
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