试题详情
- 单项选择题()是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。
A、蒸镀
B、离子注入
C、溅射
D、沉积
- C
关注下方微信公众号,在线模考后查看
热门试题
- 空气污染物按照处理性质来分:有()。
- 菲克一维扩散定律公式中的J是代表单位面积
- 电离气体与普通气体的不同之处在于:后者是
- 超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有
- 画出自动焊接工艺流程图。
- 二氧化硅生长过程中,当分凝系数小于1时,
- 为了防止抽气设备对离子注入系统的油污染,
- 不可以对SiO2进
- 说明簧片类元件的焊接技巧是什么?
- He,OH,Na等元素在900℃下,在二
- 为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接
- 决定吸附原子彼此间能否形成一个稳定的核团
- 电原理图中的虚线有哪些辅助作用?在电原理
- 如何选择烙铁头的形状?总结使用烙铁的技巧
- ()是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技
- 电荷积分仪的基本单元包括()。
- 离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的
- 选择和使用固态继电器应注意哪些问题?
- 选用电源软导线时应该考虑哪些因素?
- 晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高