试题详情
- 单项选择题双极晶体管的1c7r噪声与（）有关。
A、基区宽度
B、外延层厚度
C、表面界面状态
- C
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 半导体材料的主要晶体结构有（）型、闪锌矿
- 光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在
- 双极晶体管中只有一种载流子（电子或空穴）
- 按蒸发源加热方法的不同，真空蒸发工艺可分
- 用肉眼或显微镜可观察二氧化硅的以下质量：
- 厚膜浆料存在触变性，流体受到外力作用时黏
- 属于绝缘体的正确答案是（）。
- 半导体中的离子注入掺杂是把掺杂剂（）加速
- 对于某种薄膜的CVD过程，淀积温度为90
- 分别简述RVD和GILD的原理，它们的优
- 下图为硅外延生长速度对H2
- 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
- 在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质，在整个
- 变容二极管的电容量随（）变化。
- 分别画出单大马士革和双大马士革工艺流程图
- 丝网印刷膜的厚度不随着刮板移动速度的增加
- 在半导体工艺中，硫酸常用于去除（）和配制
- 简述电子束光刻的光栅扫描方法和矢量扫描方
- 什么是掺杂？例举四种常用的掺杂杂质并说明
- 延生长方法比较多，其中主要的有（）外延、