试题详情
- 简答题简述PE和RIE设备的不同点。
- PE刻蚀和RIE刻蚀在设备结构上的不同，使得两者的刻蚀特性不同。PE设备的上电极与电容耦合器及RF电源相连，而基板在下电极上，辉光放电区产生在距离基板很近的区域，等离子体离基板很近，轰击能量小，物理作用弱。RIE刻蚀设备的RF电源与下电极相连，基板也放在下电极上，辉光放电区产生在距离基板很远的上电极附近，等离子体离基板很远。阴极电压下降进一步增强了电场，轰击能量加大。因此，在RF电场的作用下物理作用强。
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