平板显示技术考试试题库简述采用8次光刻的多晶硅薄膜晶体管的工艺流程与非晶硅薄膜晶体管的简述采用9次光刻的多晶硅薄膜晶体管的工艺流程技术关键。简述叠层存储电容的组成及等效电路。简述彩膜的工艺流程。描述采用ODF工艺的制屏工艺流程。分析COF工艺和COG工艺哪种更适合高分辨率显示？为什么？增强场致电子发射的几个方法是什么？简述LCD视角窄的原因。简述TFT-LCD的工作原理。简述AMOLED和PMOLED的区别。简述FFS技术与IPS技术的差别。简述CRT显示的原理。分析要用七段式显示一个数字“2”，需要加的波形信号，并说明段码式简述沟道切断的作用。描述第一个液晶显示器采用的显示原理。简述AMOLED驱动的最关键的TFT性能要求。FED显示屏中残留物质对发射的几个主要影响是什么？简述MIS结构表面电荷的变化？简述电容式触摸屏的优点。简述PDP显示的面板结构。举例说明色差问题产生的原因。目前为什么大多研究单位将平面型阴极型FED作为研究重点？几种常见的电子发射是什么？简述PE和RIE设备的不同点。简述MVA技术的显示原理。简述液晶的种类。简述干法刻蚀的物理作用和化学作用。简述液晶材料的基本种类及其主要特点。简述有机发光显示的特点。简述影响OLED发光效率的主要因素和提高发光效率的措施。更多试题请关注下方微信公众号
