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简答题例举硅片制造厂房中的7种玷污源。
  • 硅片制造厂房中的七中沾污源：
    （1）空气：净化级别标定了净化间的空气质量级别，它是由净化室空气中的颗粒尺寸和密度表征的；
    （2）人：人是颗粒的产生者，人员持续不断的进出净化间，是净化间沾污的最大来源；
    （3）厂房：为了是半导体制造在一个超洁净的环境中进行，有必要采用系统方法来控制净化间区域的输入和输出；
    （4）水：需要大量高质量、超纯去离子水，城市用水含有大量的沾污以致不能用于硅片生产。去离子水是硅片生产中用得最多的化学品
    （5）工艺用化学品：为了保证成功的器件成品率和性能，半导体工艺所用的液态化学品必须不含沾污；
    （6）工艺气体：气体流经提纯器和气体过滤器以去除杂质和颗粒；
    （7）生产设备：用来制造半导体硅片的生产设备是硅片生产中最大的颗粒来源。

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