试题详情
简答题例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。
  • 离子注入的优点：
    （1）精确控制杂质含量和分布
    （2）很好的杂质均匀性
    （3）对杂质穿透深度有很好的控制
    （4）产生单一离子束
    （5）低温工艺
    （6）注入的离子能穿透薄膜
    （7）无固溶度极限
    离子注入的缺点：
    （1）高能杂质离子轰击硅原子将对晶体结构产生损伤
    （2）注入设备的复杂性

  • 关注下方微信公众号，在线模考后查看

热门试题