试题详情
- 单项选择题（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。
A、溅射率
B、溅射系数
C、溅射效率
D、溅射比
- A
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 总结使用集成电路的注意事项是什么？
- 为了避免（）在经过氯化物等离子体刻蚀之后
- 试总结电子元器件大致分为几代；对电子元器
- 单晶硅刻蚀一般采用（）做掩蔽层，以氟化氢
- thermal conductivity
- 物理气相沉积简称（）。
- 试简述表面安装技术的发展简史是什么？
- 什么叫再流焊？主要用在什么元件的焊接上？
- 有机性气体大多产生在下列哪道工艺（）。
- 净化室里废气收集管系统分为两类，分别是（
- 数字集成电路的电源滤波应该如何进行？为什
- 固化贴片胶有几种方法？
- 简述插接线工艺文件的编制原则。
- 当注入剂量增加到某个值时，损伤量不再增加
- 显像管由哪几部分组成？显像管是如何分类的
- （）主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的
- 列举有机注塑元件的焊接失效现象及原因，并
- TFTLCD显示器的主要特点有哪些？
- 从电极的结构看，溅射的方法包括（）。
- ICT的作用是什么？