试题详情
- 简答题什么是特征尺寸CD?
- 最小特征尺寸,称为关键尺寸(Critical Dimension,CD)CD常用于衡量工艺难易的标志。
关注下方微信公众号,在线模考后查看
热门试题
- 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻
- 描述净化间的舞厅式布局。
- 刻蚀工艺有哪两种类型?简单描述各类刻蚀工
- 二氧化硅薄膜在集成电路中具有怎样的应用?
- 半导体中的离子注入掺杂是把掺杂剂()加速
- 离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的
- 离子源是产生离子的装置。()
- 平行缝焊的工艺参数有焊接电流、焊接速度、
- 光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差
- 例举得到半导体级硅的三个步骤。半导体级硅
- 从寄生电阻和电容、电迁移两方面说明后道工
- 以P2O
- 给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模
- 集成电容主要有哪几种结构?
- 什么是离子注入中常发生的沟道效应(Cha
- 例举出传统装配的4个步骤。
- 集成电路封装有哪些作用?
- 例出光刻的8个步骤,并对每一步做出简要解
- 抛光片的质量检测项目包括:几何参数,直径
- 例举并解释5个进行在线参数测试的理由。