试题详情
- 简答题立式炉系统的五部分是什么?例举并简单描述。
- 工艺腔、硅片传输系统、气体分配系统、尾气系统、温控系统。
工艺腔是对硅片加热的场所,由垂直的石英罩钟、多区加热电阻丝和加热管套组成硅片传输系统在工艺腔中装卸硅片,自动机械在片架台、炉台、装片台、冷却台之间移动气体分配系统通过将正确的气体通到炉管中来维持炉中气氛 控制系统控制炉子所有操作,如工艺时间和温度控制、工艺步骤的顺序、气体种类、气流速率、升降温速率、装卸硅片。 关注下方微信公众号,在线模考后查看
热门试题
- 丝网印刷膜的厚度不随着刮板移动速度的增加
- 例举并描述金属用于硅片制造的7种要求。
- 厚膜浆料属于牛顿流体,因此其粘度属于正常
- Si-SiO2界面
- 解释水的去离子化。在什么电阻率级别下水被
- 离子在靶内运动时,损失能量可分核阻滞和电
- 质量输运限制CVD和反应速度限制CVD工
- 例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。
- 门阵列的基本结构形式有两种:一种是晶体管
- 集成电路封装有哪些作用?
- 对标准单元设计EDA系统而言,标准单元库
- 单晶是原子或离子沿着三个不同的方向按一定
- 光刻和刻蚀的目的是什么?
- 属于绝缘体的正确答案是()。
- 例举并描述硅片拣选测试中的三种典型电学测
- 将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶
- 在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?
- 人们规定:()电压为安全电压.
- 什么是掺杂?例举四种常用的掺杂杂质并说明
- 分别简述RVD和GILD的原理,它们的优