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简答题干法刻蚀的目的是什么？例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么？
  • 干法刻蚀的主要目的是完整地把掩膜图形复制到硅片表面上。
    干法刻蚀的优点：
    1.刻蚀剖面是各向异性，具有非常好的侧壁剖面控制
    2.好的CD控制
    3.最小的光刻胶脱落或粘附问题
    4.好的片内、片间、批次间的刻蚀均匀性
    5.较低的化学制品使用和处理费用
    缺点：对层材料的差的刻蚀选择比、等离子体带来的器件损伤和昂贵的设备

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